粗拋拋光液的使用濃度一般是多少？

粗拋拋光液的使用濃度因靶材材料、拋光方式等因素而有所不同。不同靶材對(duì)應(yīng)不同配方的拋光液，如鋁靶材的粗拋拋光液含 1.89％的 hf 和 98.11％的水，磨料體積百分比為 5％～9％ 。而在拋光方式上，手工拋光時(shí)，粗拋拋光液按 1:1 - 1:3（拋光液:水）稀釋，機(jī)械拋光則要依據(jù)設(shè)備要求調(diào)整。總之，使用時(shí)要綜合多種因素來(lái)確定合適的濃度。

除了鋁靶材，其他靶材的粗拋拋光液濃度也各有規(guī)定。對(duì)于鋁合金靶材，其拋光液含有 0.39％的 hf、2.41％的 hno3、0.53％的 hcl 以及 96.67％的水，磨料體積百分比處于 18％～22％ 。銅靶材的拋光液，hcl 含量在 2.7％～8％，三氯化鐵為 3.2％～5％，水占 88.5～93％，磨料體積百分比是 8％～12％ 。

鈦靶材的粗拋拋光液中，hf 占 3.28％，hno3 為 32.16％，水占 64.56％，磨料體積百分比為 23％～27％ 。鉭靶材的拋光液，hf 含量達(dá) 10.93％，hno3 為 26.78％，水占 62.29％，磨料體積百分比為 38％～42％ 。這些不同的濃度配比，是為了適應(yīng)各種靶材的特性，以達(dá)到理想的粗拋效果。

此外，雙面粗拋和單面無(wú)蠟粗拋也有特定的拋光液成分。雙面粗拋的拋光液由 15l 去離子水、900ml 有效濃度 38%的次氯化鈉溶液以及 600ml 含粒徑 85 μm 二氧化硅顆粒的硅溶膠水溶液構(gòu)成；單面無(wú)蠟粗拋的粗拋液則包含 20l 去離子水、550g 砷化鎵拋光粉以及 1000ml 含粒徑 85 μm sio2 顆粒的硅溶膠水溶液。

總之，粗拋拋光液的使用濃度是一個(gè)復(fù)雜的參數(shù)，涉及靶材材料、拋光方式等多方面因素。在實(shí)際操作中，必須精準(zhǔn)把握這些因素，嚴(yán)格按照規(guī)定調(diào)配濃度，才能確保粗拋工作順利進(jìn)行，獲得良好的拋光質(zhì)量，為后續(xù)的精細(xì)加工奠定堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。